到2026年，全球3納米工藝節(jié)點代工市場將達到242億美元規(guī)模，較今年的12億美元增長將超20倍。
12月12日消息，據(jù)外國媒體報道，三星電子研究人員日前在該國舉行的EUV光刻機生態(tài)體系會議上表示，到2026年，全球3納米工藝節(jié)點代工市場將達到242億美元規(guī)模，較今年的12億美元增長將超20倍。
目前，三星電子是唯一一家宣布成功量產3納米芯片的公司，隨著三星電子、臺積電、英特爾等半導體大廠開始引進EUV設備，工藝技術不斷發(fā)展，預計3納米工藝將成為關鍵競爭節(jié)點。
該位研究員援引研究機構Gartner數(shù)據(jù)稱，截至今年年底，在晶圓代工市場中占據(jù)最大份額的是5納米和7納米工藝，市場規(guī)模369億美元，未來其份額將逐步由3納米所取代。他還介紹稱，3納米節(jié)點需要新的器件結構以提升性能，率先實現(xiàn)量產的三星使用了環(huán)柵（GAA）晶體管結構的MBCFET，較FinFET性能功耗有明顯改善。
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